溅射靶材是磁控溅射、多弧离子镀等工艺中，高速荷能粒子轰击的目标材料， 是在基板上形成各种功能薄膜的材料源。

产品主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；应用新型于电接触材料、耐磨材料、高温耐蚀材料、玻璃镀膜等领域。

真空蒸发镀膜是在真空或特殊气氛条件下，用蒸发器加热蒸发材料使之汽化，蒸发粒子流直接射向基板并在基板上沉积形成固态薄膜的技术。蒸发材料是基片上薄膜的材料源。

蒸发材料广泛应用于电真空、光学、集成电路、无线电、原子能、装饰等领域。

包括多种贵金属三元合金、四元合金、五元合金、六元合金等线材、带材、板材等.

贵金属功能材料广泛应用与电工电子、精密仪器仪表、汽车、航空航天、兵器工业等领域。